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BRAND STRENGTH

CIF品牌力量

CIF專注材料表面處理技術，在微電子、半導體、新能源、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫學等領域，為客戶提供清洗、去膠、刻蝕、涂層等方面儀器裝備和應用工藝解決方案。

改性：等離子清洗機、紫外臭氧清洗機 去膠：等離子去膠機

涂層：等離子濺射鍍膜機、勻膠機、烤膠機 蝕刻：等離子刻蝕機

2014_年
CIF創立
2000₊
合作客戶
365_天
用心服務

OUR PRODUCTS

CIF產品展示

表面改性表面去膠表面刻蝕表面涂層

CIF實驗室型等離子清洗機CPC-F系列

型號：CPC-F/Fplus
CIF實驗室型等離子清洗機CPC-G系列

型號：CPC-G/Gplus
CIF中試型等離子清洗機CPC-10系列

型號：CPC-10/10plus
CIF中試生產型等離子清洗機CPC15/35/80/120/150

型號：CPC15/35/80/120/150
CIF在線片式真空等離子清洗機

型號：CPC-Auto
CIF全自動在線式大氣等離子清洗機

型號：CAP-Auto
CIF掃描電鏡等離子清洗機

型號：CIF-SEM
CIF大氣等離子清洗機

型號：CPA-500

CIF等離子去膠機

型號：SPB5/6/8

RIE反應離子刻蝕機

型號：RIE200/plus

旋涂機

型號：SC1/2/3
旋涂機

型號：MSC
Spin?Processor

型號：SC1
Spin?Coater

型號：SC1
CIF新一代Flash-Evac系列閃蒸成膜儀

型號：CFE16
CIF離子濺射儀

型號：IBS150
Cryomed程序降溫儀

型號：Cryomed程序降溫儀
實驗室注射泵（進樣注射泵?Squirt Sampling Pump）

型號：

Industry Applications

CIF應用領域

為客戶提供儀器設備和應用工藝解決方案，為企業創造更高的發展價值。

微電子
Microelectronics

Microelectronics微電子
在微電子制造領域，等離子清洗機被廣泛應用于多個環節。例如，在晶圓制造過程中，等離子清洗可以有效去除光刻膠殘留和金屬雜質，提高芯片的電性能和可靠性；在封裝測試階段...
半導體
semiconductors

semiconductors半導體
等離子清洗設備可廣泛應用于半導體制造過程中。半導體制造涉及多個步驟，其中之一是可以清潔半導體設備表面，去除沉積物、有機物、灰塵等污染物，確保設備的質量和性能。...
新能源
new energy

new energy新能源
在新能源領域，采用等離子體技術，可以轟擊材料表面，可以有效去除表面污染物，使工件表面親水性大大提高。等離子清洗設備是一種極環保的等離子工藝方法，無環境污染，...
線路板
circuit boards

circuit boards線路板
等離子清洗在線路板中的應用于?HDI板處理?、FPC板處理、?軟硬結合板處理?、?Teflon板處理?、?BGA貼裝前處理、線路板點銀膠前清洗、引線鍵合、?多...
LED
LED

LEDLED
等離子清洗在LED行業的應用主要體現在提高產品質量、改善表面性能和增強焊接質量等方面?。等離子清洗機通過高壓放電將氣體轉化為等離子態，形成等離子體輝光放電現...

微電子
Microelectronics

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半導體
semiconductors

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等離子清洗設備可廣泛應用于半導體制造過程中。半導體制造涉及多個步驟，其中之一是可以清潔半導體設備表面，去除沉積物、有機物、灰塵等污染物，確保設備的質量和性能。...
新能源
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在新能源領域，采用等離子體技術，可以轟擊材料表面，可以有效去除表面污染物，使工件表面親水性大大提高。等離子清洗設備是一種極環保的等離子工藝方法，無環境污染，...
線路板
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LED
LED

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NEWS AND INFORMATION

CIF新聞資訊

華儀行科技有限公司展會資訊及行業信息展現。

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緊跟國家政策，推進設備更新！CIF斥資千萬元支持儀器設備以舊換新！

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第十一屆中國微流控高端學術論壇成功舉行 CIF成為大會焦點

第十一屆中國微流控高端學術論壇暨第四屆國際微流控產業論壇于2024年9月21-22日在杭州寶盛水博園大酒店成功舉行。微流控芯片技術作為一項多學科交叉的新型生物分析技術，在醫療體外診斷、藥物篩選、環境監測、食品安全、微納材料制備等眾多領域已獲得深入的研究和廣泛的應用。學術界和產業界一致認為微流控技術“極有可能領導化學和生物醫學”。

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CIF2025論文獎勵政策
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等離子表面處理儀為工業生產帶來了巨大的經濟效益

等離子表面處理儀是利用等離子體技術對材料表面進行改性的先進設備。等離子體，作為物質的第四種狀態，它由高速運動的電子、激活狀態的中性原子、離子和自由基組成，在特定的壓力和能量供給條件下由氣體轉化而來。

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